多弧离子镀膜工艺的技术开发

Development of Technique of Multi Arc Ion Plating

  • 摘要: 目的 研究膜层牢固度好、满足各种用户对膜层厚度要求、质量一致性好的多弧离子镀膜工艺参数组合。方法 运用日本田口玄一创立的隐健性设计方法进行研究。结果 与原工艺膜厚相比均匀性提高约6.5dB,并找出膜厚与弧电流之间的线性关系;硬度一致性提高约3.4dB,显微硬度值提高约937kg·mm^-2。结论 动态特性的稳健性设计是一种高效率、高再现性的技术开发方法。

     

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